FBCVD即流化床化學(xué)氣相沉積（Fluidized Bed Chemical Vapor Deposition），其裝置在硅碳負(fù)極材料制備中十分關(guān)鍵。FB - CVD流化床氣相沉積設(shè)備裝置，它是生產(chǎn)新型硅基負(fù)極材料過程中需要使用的最關(guān)鍵設(shè)備之一，屬于從實(shí)驗(yàn)級(jí)到中試級(jí)再到量產(chǎn)級(jí)的流化床反應(yīng)器范疇，廣泛應(yīng)用于鋰電池硅碳負(fù)極等多個(gè)領(lǐng)域。

硅碳負(fù)極材料的裝置，通過化學(xué)氣相沉積法制備具有三維多孔結(jié)構(gòu)的碳骨架復(fù)合硅碳材料，實(shí)現(xiàn)高效、均勻的粉體材料處理。這種結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)有效緩解了硅材料在充放電過程中的體積膨脹效應(yīng)，還顯著提升了材料的循環(huán)穩(wěn)定性和倍率性能。原料加入：通過加料系統(tǒng)將多孔碳粉體加入流化床反應(yīng)器中。流化過程：使用惰性載氣通過氣體分布器將多孔碳粉體在反應(yīng)容器內(nèi)流化，使其呈現(xiàn)流態(tài)化狀態(tài)。氣體混合與輸入：將含硅氣體原料經(jīng)過過濾后，通過流量計(jì)控制流量并按比例混合，隨后輸入反應(yīng)容器。硅沉積：在高溫條件下，含硅氣體原料中的硅原子沉積在多孔碳的孔道內(nèi)，形成納米硅結(jié)構(gòu)。碳包覆處理：硅沉積完成后，升溫并通入乙炔氣體，完成高溫碳包覆處理，以增強(qiáng)材料的穩(wěn)定性和性能。

森朗儀器，固定床反應(yīng)裝置，流化床反應(yīng)裝置，釜式反應(yīng)裝置，微型反應(yīng)器，高壓反應(yīng)釜，加氫評(píng)價(jià)裝置。